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大阪大学大学院基礎工学研究科 附属スピントロニクス学術連携研究教育センター

  

メンバー写真

浜屋研究室は、機能性薄膜材料の高品質作製技術を駆使した新しいエレクトロニクス研究を行なっている研究室です。

NEWS

  • 山田助教、M2寺本君らの「ホイスラー合金/強誘電体 界面マルチフェロイク材料」に関する論文が、Physical Review Materials (IF=3.337@2019)に掲載されます (リンク)。(Co2FeSi薄膜をBaTiO3上に高品質形成することに初めて成功し、異方性磁気抵抗効果の電界制御を実現した研究成果です。) 名古屋大学の谷山研究室、英国ヨーク大学のLazarov研究室との共同研究です。[2021.01.07]
  • M1山田君、山田特任助教らの「p型ゲルマニウムの室温スピン拡散長」に関する論文が、Journal of Applied Physics (IF = 2.286@2019)に掲載されました(リンク)。(縦型スピン素子構造を用いて強磁性体上のp型ゲルマニウム層の膜厚を変化させ、室温でスピン伝導を観測することで、室温スピン拡散長を見積もった実験です。) [2021.01.06]
  • 山田晋也助教が『第33回安藤博記念学術奨励賞』を受賞しました。(おめでとうございます。)[2020.10.19] (リンク) (写真リンク)
  • 秘書の武田さんが着任しました。[2020.10.1]
  • 研究生の内藤君(10月1日から博士後期課程)が学振DC1(訳あって2回目)に内定しました。[2020.9.25]
  • 「強磁性ホイスラー合金/半導体ヘテロ界面における電荷-スピン変換効率の増大」に関する論文が、Physical Review Applied (IF=4.194@2019)に掲載されました。(スピンポンピングと逆スピンホール効果を用いたスピン注入/検出手法で観測している信号は、電気的スピン注入/検出法で得られるスピン信号とは根本的に異なる起源により発現していることを明らかにした論文です。)東京大学の大矢研究室との共同研究です。 [2020.9.1] (リンク)
  • 昨年度修士修了の嶋貫君(現ソニー)と山田助教・真砂特任准教授の「新しいホイスラー型熱電薄膜材料」に関する論文が、Physical Review B (IF=3.575@2019)に掲載されました。(Fe2VAl薄膜よりも高いゼーベック係数を示すFe2TiSi薄膜に対して、Mnを精密に置換することで、ゼーベック係数の符号反転などの物性制御を実証した論文です。) 阪大基礎工の中村研究室との共同研究です。 [2020.8.4] (リンク)
  • ホームページをリニューアルしました。[2020.8.3]
  • 山田特任助教らの「室温における高性能半導体スピン素子の実証」に関する論文が、NPG Asia Materials (IF=8.052@2018)に掲載され、Featured Articleに選ばれました。 (半導体スピントロニクス素子におけるスピン注入技術において、バンド対称性マッチング効果を初めて明らかにした論文です。)阪大産研の小口研究室、東京都市大の澤野研究室との共同研究です。 [2020.6.19] (リンク) (プレスリリース)
  • 内藤君と山田特任助教の「歪みSiGeにおけるスピン緩和の抑制」に関する論文が、Physical Review Applied (IF=4.532@2018)に掲載されました。(半導体スピン伝導素子における歪み印加の効果を世界で初めて明らかにした論文です。) 東京都市大の澤野研究室との共同研究です。[2020.5.16](リンク)(プレスリリース)
  • D3工藤君らの「低温形成Co2MnSi薄膜のハーフメタル特性」に関する論文が、 Journal of Alloys and Compounds (IF = 4.175@2018) に掲載されることが決定しました。(ペロブスカイト酸化物上にCo2MnSiを初めて低温成長することに成功し、高性能を実証した論文です。)九州大学の木村研究室、英国ヨーク大学のLazarov研究室との共同研究です。[2020.5.9]
  • 宇佐見喬政 研究員が着任しました。また、新M1の藤井君、新4年生の浅尾君、加藤君、西村君が配属されました。[2020.4.2]
  • M2 椎原君、嶋貫君、内藤君が修士号を、B4本多君、松岡君、松實君、村田君、山田君が学士号を取得しました。皆さん、修了・卒業おめでとうございます。 [2020.3.26](写真リンク)
  • 修士論文発表会および卒業論文発表会が行われ、M2の嶋貫君が基電会賞、椎原君と内藤君が修士論文優秀発表賞、B4の山田君と松實君が卒業論文優秀発表賞を受賞することになりました。M2は受賞者6名の中に3人全員が入る快挙です。[2020.03.06]
  • M2嶋貫君らの研究で「ホイスラー型熱電材料Fe2TiSi薄膜の実証」に関する論文が、Journal of Applied Physics (IF = 2.328)に掲載されました。(Fe2TiSiの単相薄膜の実験的証拠やFe2VAl薄膜よりも大きなゼーベック係数などの物性について議論した論文です。) 阪大基礎工 中村研究室との共同研究です。[2020.02.05] (リンク)
  • M2椎原君らの研究で「アンチモン添加ゲルマニウムにおける室温スピン伝導」に関する論文が、Applied Physics Express (IF = 2.772)に掲載されました。(n型ゲルマニウム中間層を有する縦型素子の初めての実証研究であるとともに、半導体中の室温スピン伝導における不純物種の影響を初めて議論した論文です。)[2020.02.04] (リンク)
  • 「スピントロニクス学術連携基盤と連携ネットワーク拠点」の2019年度年次報告会を、阪大基礎工シグマホールで行いました。[2019.12.12] (写真リンク)
  • 産総研(ナノスピントロニクス研究センター)との共同研究で、Fe/MgO/Si接合における近接効果の検出に関する論文が、Physical Review B (IF=3.736@2018)に掲載されました。[2019.12.01] (リンク)
  • 修士修了生の小林君と山田助教の実験で、ホイスラー合金薄膜における正の線形磁気抵抗効果の起源に関する論文が、Physical Review B (IF=3.736@2018)に掲載されました。(NIMS 磁性・スピントロニクス材料研究拠点、SPring-8、阪大産研 小口研究室との共同研究です。) [2019.11.26] (リンク)
  • D2工藤君の「Co系ホイスラー合金薄膜の低温結晶成長」に関する研究が、ACS Applied Electronic Materials に掲載されました。(東京工業大学 合田准教授との共同研究です。)[2019.11.26](リンク)
  • M2内藤君が第80回応用物理学会秋季学術講演会で発表しました「Spin transport in a strained SiGe alloy」が、スピントロニクス研究会 第12回英語講演奨励賞に選ばれました。(おめでとうございます。)[2019.10.21]
  • 山田助教が、マツダ研究助成奨励賞を受賞しました。(おめでとうございます。)[2019.10.15](リンク)
  • 山田道洋 特任助教が着任しました。 [2019.10.01]
  • D2工藤君とM2内藤君が、日本学術振興会特別研究員のDC2とDC1にそれぞれ内定しました。(浜屋研発足以来、学振採択者は13名になりました (SPD,PD含む)) [2019.9.30]
  • 博士課程修了生の藤田君(現:NIMS)らの「半導体スピン素子におけるスピン蓄積信号の非線形バイアス依存性」に関する論文が、Physical Review B (IF=3.736@2018)に掲載されました。(東京都市大の澤野研究室との共同研究です。) [2019.7.29](リンク)
  • 東京都市大学(澤野研究室)との共同研究で、歪みSiGe(111)チャネル層の形成に関する研究がApplied Physics Express(IF=2.772@2018)に掲載されました。[2019.7.25](リンク)
  • 産総研(ナノスピントロニクス研究センター)との共同研究で、半導体スピンデバイスにおける2端子素子中のHanle効果信号に関する成果が、 Applied Physics Letters (IF=3.495@2017)に掲載されました。[2018.06.18](リンク)
  • 産総研(ナノスピントロニクス研究センター)との共同研究で、半導体スピンデバイスにおけるスピンドリフト効果に関する成果が、 Physical Review Applied (IF=4.782@2017)に掲載されました。[2019.4.8](リンク)
  • 新メンバー(M1寺本君、B4 本多君、松岡君、松實君、村田君、山田君)が配属されました。[2019.04.01]